उत्पादने

आम्ही असंतुलित मॅग्नेट्रॉन (UBM) स्पटरिंग पद्धतीद्वारे तयार केलेल्या 10.9% पेक्षा कमी नायट्रोजन एकाग्रतेसह नायट्रोजन-डोपड नॅनोकार्बन फिल्म इलेक्ट्रोडचा अभ्यास केला.नायट्रोजन-डोपड UBM स्पटरिंग नॅनोकार्बन फिल्म (N-UBM फिल्म) मधील sp(3) सामग्री वाढत्या नायट्रोजन एकाग्रतेसह किंचित वाढते.नायट्रोजन-युक्त ग्रेफाइट-सदृश बाँडिंग कमी होते आणि वाढत्या नायट्रोजन एकाग्रतेसह पायरीडाइन सारखे बंधन वाढते.N-UBM फिल्ममध्ये 0.1 ते 0.3 nm सरासरी उग्रपणासह अतिशय गुळगुळीत पृष्ठभाग आहे, जो नायट्रोजन एकाग्रतेपासून जवळजवळ स्वतंत्र आहे.N-UBM फिल्म इलेक्ट्रोड त्याच्या sp(3) सामग्रीमध्ये किंचित वाढ झाल्यामुळे शुद्ध-UBM फिल्म इलेक्ट्रोड (3.9 V) पेक्षा विस्तृत संभाव्य विंडो (4.1 V) दर्शवते.वाढत्या नायट्रोजन एकाग्रतेसह इलेक्ट्रोकॅटॅलिटिक क्रियाकलाप वाढला, जे सूचित करते की जेव्हा नायट्रोजन एकाग्रता 10.9% च्या आसपास असते तेव्हा इलेक्ट्रोएक्टिव्हिटी जास्तीत जास्त असते, ज्याची पुष्टी Fe(CN)6(4-) च्या शिखर पृथक्करणाने होते.N-UBM फिल्म इलेक्ट्रोडवरील हायड्रोजन पेरोक्साइड (H2O2) कमी करण्याची क्षमता सुमारे 0.1 V हलवली आणि H2O2 चा सर्वोच्च प्रवाह सुमारे 4 पट वाढला.