उत्पादने

सॉलिड-फ्लुइड इंटरफेसमध्ये प्रथिनांचे शोषण बहुतेक वेळा प्रायोगिकरित्या विद्रव्य एकत्रित आणि मोठ्या, सबव्हिजिबल आणि दृश्यमान कणांच्या निर्मितीस प्रोत्साहन देते, परंतु या प्रक्रियेतील मुख्य टप्पे थेट तपासणे कठीण असते.जल-सिलिकॉन ऑक्साईड (SiOx) इंटरफेसमध्ये शोषणाद्वारे मध्यस्थी केलेले एकत्रीकरण, हायड्रेटेड काचेच्या पृष्ठभागांसारखेच, अल्फा-किमोट्रिप्सिनोजेन (aCgn) आणि मोनोक्लोनल अँटीबॉडी (IgG1) साठी pH आणि आयनिक शक्तीचे कार्य म्हणून वैशिष्ट्यीकृत होते.SiOx पृष्ठभाग स्वच्छ करण्यासाठी शोषून घेतलेल्या प्रथिनांच्या स्तरांसाठी तसेच सलग "स्वच्छ" पायऱ्यांनंतर फ्लो सेलने न्यूट्रॉन रिफ्लेक्टिव्हिटीला परवानगी दिली.पृष्ठभाग हळुवारपणे "स्वच्छ" केल्यानंतर सोल्युशनमध्ये परत आलेले समुच्चय न्यूट्रॉन स्कॅटरिंग, मायक्रोस्कोपी आणि फ्लोरोसेन्स स्पेक्ट्रोस्कोपी द्वारे वैशिष्ट्यीकृत होते.IgG1 रेणू मुख्यतः SiOx पृष्ठभागाच्या विरूद्ध "सपाट" असतात, प्राथमिक प्रथिने थर कमीतकमी प्रमाणात शोषून घेतात, तर एक पसरलेला आच्छादन सहजपणे धुवून टाकला जातो.aCgn रेणू जेव्हा इंटरफेसवर उलगडलेले दिसले तेव्हा ते पृथक्करणास प्रतिरोधक होते, परंतु अन्यथा ते सहजपणे काढले गेले.ज्या प्रकरणांमध्ये मजबूत बंधन होते, त्या प्रथिने ज्याने desorb केले ते मोनोमर आणि लहान प्रमाणात HMW समुच्चय (aCgn साठी) किंवा subvisible कण (IgG1 साठी) यांचे मिश्रण होते.शोषणातील बदल आणि/किंवा pH सह उलगडणे हे सूचित करते की इलेक्ट्रोस्टॅटिक परस्परसंवाद सर्व प्रकरणांमध्ये महत्त्वपूर्ण होते.